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本設備適用于評估和控制在半導體生產(chǎn)中的外延過程并且以被使用在多種不同的材料上, 例如:Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides.
CVP21的凈室和模塊化的系統(tǒng)設計結構使得本系統(tǒng)可以高效率,準確的測量半導體材料(結構,層)中的摻雜濃度分布.選用合適的電解液與材料接觸,腐蝕,從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控制
CVP21的系統(tǒng)特點
? 堅固可靠的模塊化系統(tǒng)結構
.光學,電子和化學部分相對獨立.
? 精確的測量電路模塊
?
強力的控制軟件,系統(tǒng)操作,使用簡便
? 完善的售后服務體系
ECV/結深測試儀/擴散濃度分選儀
德國WEP公司的ECV(型號為CVP21)在太陽能光伏行業(yè)的應用非常普及,市場占有率甚至達95%以上,是光伏行業(yè)電池技術研究和發(fā)展的必要工具之一,在知名的光伏企業(yè)都有廣泛地使用。
WEP公司的ECV設備:CVP21(見圖)
1.
ECV又名擴散濃度測試儀,結深測試儀等,即電化學CV法測擴散后的載流子濃度分布(見圖);
2.
相比其他方法如SRP,SIMS等,ECV具有測量使用方便,價格低的優(yōu)點;
4. CVP21所能測量的深度范圍是nm---10um;
5.
測量的載流子濃度范圍在10e12cm-3 < N < 10e21cm-3之內(nèi)都無需校準;
6. 測量擴散樣片時,樣片是保持“Dry
in”和“Dry out”,并無需做特別處理;
7.
其所用到的化學試劑本地就能買到,價格低且用量很少買一次可以用好幾年;
8.
從CVP21所測得的數(shù)據(jù)能帶給研發(fā)或工藝人員三方面的信息:一是表面濃度,二是濃度變化曲線,三是結深(見圖);
9.
表面濃度對于選擇和使用適合的漿料很有幫助,如粘合性,接觸電阻等的匹配問題;
10. 濃度分布曲線對掌握和改進擴散工藝提供依據(jù);
11.
結深的信息對電池工藝的總體把握來說是必須的,也是擴散工藝時常需要抽測的項目之一;
12.
參考:測試出的幾種擴散濃度分布曲線(見圖);
13. 廣泛的客戶群:Q-CELL, NREL, ISFH,
SHELL,ECN,RWE,HMI,SISE尚德,天合,晶澳,英利,交大泰陽,BYD,海潤,晶科,吉陽,南玻,格林保爾…
金牌優(yōu)質(zhì)服務
?
電化學CV分布儀(CV測試儀)
產(chǎn)品經(jīng)理:Mike
Zhai
聯(lián)系電話:021- 34635258/59/61/62
手
機:13681980050
郵
箱:mike@rayscience.com
電化學ECV 摻雜濃度檢測 電化學CV分布儀(CV測試儀)電化學CV剖面分析儀 電化學CV載流子濃度
http://www.rayscience.com/cv/27594.pdf
http://www.rayscience.com/cv/ECVBSF.pdf
http://www.rayscience.com/cv/ECVPKHALLSIMSSRP.pdf
http://www.rayscience.com/cv/flyer-cvp21.pdf
http://www.rayscience.com/cv/Heterojunctions.pdf
http://www.rayscience.com/cv/ISFH.pdf
http://www.rayscience.com/cv/ISFHECV.pdf
http://www.rayscience.com/cv/KonstanzECV-Profiles.pdf
http://www.rayscience.com/cv/Letter_of_Excellence_Distributor_for_Rayscience.pdf
http://www.rayscience.com/cv/semiconductortoday.pdf
http://www.rayscience.com/cv/wepsellscvp21.pdf