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DWL66+激光光刻系統(tǒng)是一個經濟的,高分辨率模式發(fā)生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統(tǒng)的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統(tǒng),生物微機電,微光學,專用集成電路,微流體,傳感器,計算機全息技術,還有其他的微型機構的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內包含了超過150個領先的大學和研究設備處。這個系統(tǒng)的很多功能一直在與這些機構進行密切的合作開發(fā)。
重要特征選項
最大基板尺寸9”x 9”
最小描繪尺寸0.6um
最小描繪網格10nm
先進的灰度曝光模式
實時的自動對焦系統(tǒng)
客戶特定激光源
矢量和柵格曝光模式
可交換的寫模式
攝像系統(tǒng)計量和校準
前后面對齊
人工氣候室
多種數(shù)據輸入格式
用戶編程接口
技術參數(shù)
寫入模式 | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 |
地址網格(nm) | 10 | 20 | 25 | 50 | 100 | 200 |
最小結構大小(um) | 0.6 | 0.8 | 1 | 2 | 4 | 7 |
寫速度(mm^2/min) | 6 | 25 | 39 | 145 | 500 | 1000 |
邊緣粗糙度(3σ,nm) | 50 | 70 | 80 | 110 | 160 | 240 |
線寬均勻度(3σ,nm) | 60 | 80 | 100 | 180 | 250 | 500 |
線條測量精度(3σ,nm) | 100 | 120 | 150 | 250 | 400 | 800 |
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