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DWL66+

DWL66+激光光刻系統(tǒng)是一個經(jīng)濟的，高分辨率模式發(fā)生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統(tǒng)的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統(tǒng)，生物微機電，微光學，專用集成電路，微流體，傳感器，計算機全息技術(shù)，還有其他的微型機構(gòu)的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內(nèi)包含了超過150個領(lǐng)先的大學和研究設備處。這個系統(tǒng)的很多功能一直在與這些機構(gòu)進行密切的合作開發(fā)。

重要特征選項

最大基板尺寸9”x 9”

最小描繪尺寸0.6um

最小描繪網(wǎng)格10nm

先進的灰度曝光模式

實時的自動對焦系統(tǒng)

客戶特定激光源

矢量和柵格曝光模式

可交換的寫模式

攝像系統(tǒng)計量和校準

前后面對齊

人工氣候室

多種數(shù)據(jù)輸入格式

用戶編程接口

技術(shù)參數(shù)

寫入模式	1	2	3	4	5	6
地址網(wǎng)格（nm）	10	20	25	50	100	200
最小結(jié)構(gòu)大?。╱m）	0.6	0.8	1	2	4	7
寫速度（mm^2/min）	6	25	39	145	500	1000
邊緣粗糙度（3σ，nm）	50	70	80	110	160	240
線寬均勻度（3σ，nm）	60	80	100	180	250	500
線條測量精度（3σ，nm）	100	120	150	250	400	800

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排序方式:

MLA 100 無掩模光刻儀

MLA100的應用領(lǐng)域包括生命科學，微機電系統(tǒng)，微光學，半導體，傳感器，執(zhí)行器，微光機電系統(tǒng)，材料研究，納米管，石墨烯，這任何一項應用都需要微光顯示結(jié)構(gòu)。

DWL66+

DWL66+激光光刻系統(tǒng)是一個經(jīng)濟的，高分辨率模式發(fā)生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統(tǒng)的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統(tǒng)，生物微機電，微光學，專用集成電路，微流體，傳感器，計算機全息技術(shù)，還有其他的微型機構(gòu)的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內(nèi)包含了超過150個領(lǐng)先的大學和研究設備處。這個系統(tǒng)的很多功能一直在與這些機構(gòu)進行密切的合作開發(fā)。

uPG 101

uPG 101 是很經(jīng)濟，容易去用微型發(fā)生器進行直寫應用和低容量掩模制作的一個系統(tǒng)。這個系統(tǒng)可運用的應用有，微電子機械系統(tǒng)、生物微系統(tǒng)、集成光學、微流道或者其他需要高分辨率的微型系統(tǒng)。他的面積很小只有60*1875px^2，獨特的緊湊結(jié)構(gòu)，使得所有的電子分量都可以完整的包含在這個系統(tǒng)中。個人電腦可以用來控制這個系統(tǒng)，這個基于操作軟件的圖形用戶界面使用戶更容易去進行設計，生成目錄，自動對準和生成曝光。